光刻膠涂布

旋涂

膠厚精度≤3%

（適用于平面）

噴涂

膠厚精度≤10%

（適用于平面/凹凸面）

光刻

精度 2um

套準精度：0.15um

顯影

精度2um

顯影均勻性<5%

蝕刻